【引言】
脑胶质瘤是一种高扩散性的颅内肿瘤,占中枢神经系统肿瘤的三分之一,发病率、死亡率、复发率高,治愈率低。光声成像是一种较新的分子成像技术,组织穿透力强,空间分辨率高,被视为脑胶质瘤的有效诊断手段。更深层部位的胶质瘤检测,往往需要高光声成像灵敏度的造影剂。
本文亮点
1 简单溶液混合法制备了吲哚青绿(ICG)共价修饰的MoS2纳米片复合材料。
2 以MoS2–ICG作为造影剂,实现了3.5 mm深度肿瘤的光声成像,是目前报道的利用纳米探针在NIR I区对胶质瘤光声成像的最大深度。
3 本工作为研发高灵敏光声成像纳米探针提供了有效途径,即利用光学染料对过渡金属二维卤化物进行共价修饰。
内容简介
用MoS2–ICG作为造影剂,有效实现了小鼠头皮下方3.5毫米处的体内胶质瘤光声成像,与此前报道的MoS2纳米片造影剂相比,本工作的成像深度高出近两倍。结合其良好稳定性和高生物相容性,MoS2–ICG在转化医学中的高效肿瘤分子成像方面具有优异的应用前景。
图文导读
1 MoS2–ICG复合物的光声信号
800 nm激光激发下MoS2–ICG的光声信号比未修饰MoS2纳米片高约16倍,ICG共价修饰显著提高MoS2的光声灵敏度。
2 MoS2–ICG复合物的细胞摄取和体外生物相容性
通过使用高度灵敏的MoS2–ICG杂合体,在800 nm的激发波长下,成像深度达到了3.5mm,比之前的研究增加了2倍。
作者简介
主要研究方向:
光学和超声医学成像技术的研发及相关医学应用研究。
主页:
http://bmo.siat.ac.cn/bmo/zhongxintuandui/
主要研究方向:
分子影像和分子探针,肿瘤光学治疗。
主页:
http://lauterbur.siat.ac.cn/?mod=team&act=con&id=413
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