研究背景
近年来,计算机技术,尤其是人工智能领域,呈现了迅猛的发展。随之而来的是越来越大的计算量,数据量和能源消耗。传统的基于的冯诺依曼架构的内存计算分离方式面临严重挑战。内存内计算是一项从人脑计算中汲取灵感的新兴技术。它通过将计算与内存融合,实现存算一体化,达到类脑计算的效果,从而有效降低能源消耗,实现绿色计算的目标。在内存内计算的设计中,忆阻器作为关键器件,一直备受大家的重点关注。自2008年首个忆阻器在实验室问世以来,其技术和性能在这短短几年内取得了巨大进步。近年来,基于二维材料的忆阻器展现出卓越的性能表现。二维材料制作成的忆阻器具有集成密度大,性能稳定,延展性强等优点,有望成为下一代忆阻器设计的核心材料。近两三年来,基于二维材料的忆阻器的研究已经从单个器件的制备测试,扩展到多个忆阻器的连接和集成,形成交叉阵列,从而逐步实现真正的类脑计算。这表明二维材料忆阻器的研究已经进入了一个新的阶段。本综述对已制备成交叉阵列的二维材料忆阻器进行了整理和分析,从材料选取,性能优化,阵列结构和集成计算等方面展示忆阻器研究的前沿进展。
Recent Advances in In‐Memory Computing: Exploring Memristor and Memtransistor Arrays with 2D Materials
Hangbo Zhou, Sifan Li, Kah-Wee Ang*, Yong-Wei Zhang *
Nano-Micro Letters (2024)16: 121
https://doi.org/10.1007/s40820-024-01335-2
本文亮点
1. 全面展示了基于二维材料的忆阻器的前沿研究。
2. 提出了实现内存内计算的关键步骤,涵盖了材料选取,器件优化,结构设计等。
3. 提出了从单一器件合成到多器件集成的技术突破中存在的挑战。
内容简介
新加坡高性能计算中心,科技研究局张永伟课题组和新加坡国立大学Kah-Wee Ang课题组汇总了自2019年以来二维材料忆阻器领域的最新研究成果,并提出了从材料选取,忆阻器制备,阵列结构设计到类脑芯片设计等方面的关键步骤。文章首先从材料选择角度入手,综合二维材料的整体优势,以及不同二维材料制备成忆阻器的机制和原理,分析了当前可制备忆阻器的各种二维材料的性能特点。其次,本文分析了在阵列中的忆阻器的性能表现,包括能耗,计算电压,器件尺寸,重复擦写次数,数据保持时间等方面,全面展现各种忆阻器的优缺点。此外,很多研究不仅做出了忆阻器,还把忆阻器连接集成形成了阵列。因此,本文着重介绍了不同的阵列结构,分析了他们的特点和优势。然后,本文还介绍了忆阻器在神经网络,类脑计算中的应用。最后,本文探讨了二维材料在忆阻器设计中面临的挑战,发展趋势以及对未来的的展望。
图文导读
I 实现类脑计算的关键步骤
图1展示了从二维材料选择,到忆阻器制备与性能比较,阵列结构选择,计算功能实现到最终实现类脑计算的关键步骤。
图1. 基于二维材料实现内存内计算的关键步骤。首先,图表展示了二维材料的独特性能以及其制备忆阻器的机制和原理。其次,我们分析了二维材料忆阻器在类神经突触和类神经元中的性能表现,再次,我们展示了不同的阵列结构和集成方式。最后,我们展示了用于神经网络的各计算功能的实现。
II 二维材料忆阻器的机制
忆阻器是一种其电阻取决于流经它的电流量的电子元件。它具有两种状态,即打开状态(低电阻)和关闭状态(高电阻)。在二维材料中,我们可以通过不同机制实现这一功能。图2 展示了可应用于忆阻器的二维材料的及其工作机制。由图2(a)所示,由于二维材料非常薄,电流流过时金属电极中的金属原子可以渗入其中,形成可导电的金属带。而二维材料本身为绝缘体(例如h-BN)或者半导体,因此其导电性能可以在关闭和打开中切换。另一方面,由图2(b)所示,在一些半导体中缺陷在电流的作用下具有很高的迁移率,比如MoS₂中的硫缺陷。这些缺陷的移动导致了电极接触面上的肖特基势变化,从而导致接触电阻的显著变化。图2(c)展示了通过光电效应设计的忆阻器。这些二维材料具有可见光敏感性,所以可以用于传感器设计和集成。图2(d)展示了通过二维材料的相变特征设计的忆阻器。图2(e)展示了通过二维材料的铁电性设计的忆阻器。
图2. 二维材料作为忆阻器材料选择的平台,不同的材料具备不同的作用机制和原理:(a)形成可导性金属带的机制;(b)缺陷迁移机制;(c)光电效应机制;(d)相变机制;(e)铁电性机制。
III 二维材料忆阻器的性能
一个表现优异的忆阻器需要具备低能耗,低操作电压,低操作电流,擦写变异小,数据保持时间长,以及器件变异率低等特点。图3展示了当前忆阻器在这些性能上的表现。这些数据清楚的表明,近年来忆阻器的性能得到了显著提升。通过性能比较我们发现,多端忆阻器(memtransistor)通常具有较低的能源消耗和电路中的能源损耗。然而,目前这类忆阻器的擦写稳定,器件稳定性,数据保持时间和预期存在一定差距。h-BN忆阻器具有良好的单一器件性能,其缺乏控制端,因此在集成时需要解决漏电造成的能源损耗问题。
图3. 忆阻器的性能分析以及和发展蓝图的比较:(a)能耗和操作电流;(b)操作电压和器件尺寸;(c)。擦写次数和保持时间;(d)各种类型忆阻器的发展现状和发展蓝图对比;(e)擦写变异率;(f)器件变异率。
IV 阵列结构和集成
图4展示了忆阻器的各种阵列结构和与内存电路的集成方式。阵列结构包括一维阵列,二维交叉连接阵列等方式。其中二维交叉阵列是最为普遍的连接方式,并且其与神经网络的连接方式相吻合,可用于快速矩阵计算。由于二维材料的特殊性,由二维材料制作而成的忆阻器可通过层层堆叠实现三维集成。另外,在具体应用中,我们还注意到了阵列与内存电路,传感器等器件的集成,达到高效低能耗的计算目标。
图4. 忆阻器阵列和电路集成:(a)一维阵列;(b)二维阵列;(c)带有选择器的二维阵列;(d)带有三极管的多端忆阻器阵列;(e)自选多端忆阻器阵列;(f)三维集成;(g)神经突触和神经元的集成;(h)阵列与内存电路集成;(i)在多层硬件中的阵列和内存电路集成
V 忆阻器阵列的基本功能
为实现复杂的类脑计算,我们首先需要让忆阻器首先实现一些简单的功能,为将来集成复杂运算电路做好准备。类似神经网络需要的计算,这些简单的功能包括模式记忆,矩阵计算,线性和非线性回归,以及影像处理。模式记忆类似于人脑的记忆功能,而矩阵计算则代表了神经元之间的信号传递和处理。线性和非线性回归的实现使机器学习成为了可能,而影像处理则可以使我们能够从复杂信息中提取关键信息。
图5. 忆阻器阵列的基本功能介绍:(a)模式记忆;(b)矩阵计算;(c)线性回归;(d)非线性回归;(e)影像处理。
VI 神经网络
忆阻器通过实现类似神经元和神经突触的功能,最终将实现人工神经网络的计算。图6列举了各类神经网络,以及忆阻器在其中能做出的突出表现。
经典条件反射表现出四个特征:获取、消退、恢复和泛化。其中,同时对器件施加包含光刺激和电刺激的关联对以实现获取特性。如图6a所示,电导响应在阈值以上迅速增加,触发PER。关联对的训练结果表明,仅仅施加也CS可以触发响应;然而,这种神经连接并不是永久的。消退可以主导条件反应的消失。在10分钟后,对每个器件施加了45个周期的光刺激。图6b表明经过10秒的衰减时间后CS单独未能触发PER(消退)。图6c展示了使用相同的关联对进行训练后的电导响应。响应增强到约0.97 μA,初始衰减电流激发到0.95 μA,表明了US和CS之间神经连接的重新加强(恢复)。在泛化过程中,类似的刺激在特定的联想对下形成神经连接后,也可以触发相同的响应。在本工作中,低频联想被视为类似刺激,并在恢复后应用于器件。如图6d所示,电导率响应逐渐增加超过阈值,虽然触发过程缓慢,但具备触发PER的能力。
VII 总结和展望
二维材料忆阻器在这几年飞速发展,为类脑运算提供了实现的可能,从而实现绿色计算,低能耗计算,高性能计算的目标。目前忆阻器研究面临的主要困难集中在忆阻器的大规模高密度集成。这些困难主要体现在以下几个方面。首先需要降低二维材料忆阻器的厚度和尺寸,这对忆阻器制备提出了很高的要求。二是当忆阻器需要和其他电路,包括三极管,选择器等,集成时,对制备低转化电压,低能耗,小尺寸的忆阻器提出了更高的要求。三是忆阻器的稳定性。当前制备的忆阻器存在明显的变异率,产品性能还不均匀。最后,人工神经突出和神经系统的自主学习功能仍然有待突破。目前的训练和学习过程还主要依赖传统计算机。尽管面临诸多挑战,但是近年来忆阻器和类脑运算这几年的飞速发展,让我们看到了自摩尔时代以后,更新下一代计算器件的希望。
作者简介
本文共同第一作者
本文共同第一作者
本文通讯作者
二维材料的生长,物理性质以及器件,再生能源材料,新型合金材料设计和增材制造,以及纤维增强热塑性复合材料用于氢气和氨的储存与运输。
本文通讯作者
纳米电子学和纳米光子学技术。
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Nano-Micro Letters《纳微快报(英文)》是上海交通大学主办、在Springer Nature开放获取(open-access)出版的学术期刊,主要报道纳米/微米尺度相关的高水平文章(research article, review, communication, perspective, highlight, etc),包括微纳米材料与结构的合成表征与性能及其在能源、催化、环境、传感、电磁波吸收与屏蔽、生物医学等领域的应用研究。已被SCI、EI、PubMed、SCOPUS等数据库收录,2022JCR影响因子为 26.6,学科排名Q1区前5%,中科院期刊分区1区TOP期刊。多次荣获“中国最具国际影响力学术期刊”、“中国高校杰出科技期刊”、“上海市精品科技期刊”等荣誉,2021年荣获“中国出版政府奖期刊奖提名奖”。欢迎关注和投稿。
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